银纳米线是一种典型的金属纳米线，除具有银优良的导电性之外，还具有优异的透光性、耐曲挠性，因此被视为是最有可能替代传统ITO透明电极的材料。用银纳米线制备的柔性透明导电薄膜具有良好的透明性和导电性，被广泛应用于光电、柔性显示器件，如可折叠的手机、智能家居、可穿戴设备等。

目前，银纳米线主要通过喷涂、旋涂、丝网印刷、刮涂、喷墨打印等方法随机分布在柔性薄膜上得到透明导电薄膜。

旋涂法

旋涂法是实验室用液相蒸发制备较小尺寸（mm）膜层的常用方法，基本工艺及原理是将涂膜液滴在高速旋转的基材表面，涂膜液滴在离心力作用下摊平成膜。旋涂成膜工艺简单易行，能够制备极薄的膜层，是实验室常用成膜手段。

喷涂法

喷涂法是利用气流与喷涂液体相互作用，雾化喷涂液并将雾状液滴喷洒到基材的成膜方式。本质上喷涂法制备的液膜是由沉积在衬底表面的液滴随机占位、互相堆叠而成，其均匀性依赖于液滴落点位置的概率均匀以及液滴摊开后液饼内部的厚度均匀，一般认为喷涂成膜的均匀性不及旋涂膜层。

棒涂法

棒涂法通常使用丝棒作为涂布工具将涂布液在基材上摊平，不同型号的丝棒其绕丝直径不同，一种型号对应一个涂膜厚度，因此使用不同型号的丝棒就能改变成膜厚度，适用于制备大尺寸器件且可连续生产。此外，与旋涂法及喷涂法不同，棒涂法更适用于粘度较大的涂膜液。

以上3种方法中，旋涂和喷涂是实验室常用的两种制备银纳米线透明导电薄膜的方法，如您想了解更多银纳米线的相关资料，可

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